日本EME自轉(zhuǎn)公轉(zhuǎn)獨(dú)立變頻真空攪拌脫泡機(jī)
日本EME自轉(zhuǎn)公轉(zhuǎn)獨(dú)立變頻真空攪拌脫泡機(jī)

• 高粘度或比重差異大的材料攪拌不均勻
• 攪拌后殘留氣泡，良品率無法提升
• 往注射器充填費(fèi)時(shí)費(fèi)力，還會(huì)重新混入氣泡
• 只想用少量材料做實(shí)驗(yàn)，卻得不到穩(wěn)定品質(zhì)

• 高粘度、比重差異大的材料也能在數(shù)分鐘內(nèi)攪拌均勻
• 真空環(huán)境下攪拌，短時(shí)間實(shí)現(xiàn)脫泡
• 攪拌脫泡后，可在真空狀態(tài)下高密度充填到注射器
• 即使是少量材料，也能穩(wěn)定實(shí)現(xiàn)均勻攪拌?脫泡?分散

1. 適用于金屬粉、陶瓷粉等高比重材料的研發(fā)與小批量生產(chǎn)
2. 低振動(dòng)?長(zhǎng)壽命，自轉(zhuǎn)/公轉(zhuǎn)獨(dú)立變頻控制
3. 高粘度?高比重或粘度/比重差異大的材料均可均勻攪拌、分散
4. 真空攪拌，短時(shí)間內(nèi)脫泡
5. 自轉(zhuǎn)?公轉(zhuǎn)獨(dú)立變頻，攪拌窗口更廣
   ? 搭載第4代機(jī)構(gòu)，可任意設(shè)定自轉(zhuǎn)與公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速（自轉(zhuǎn)＞公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)＝公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)＜公轉(zhuǎn)均可）
   ? 從低粘度到高粘度，均可按材料特性設(shè)定參數(shù)；長(zhǎng)期使用轉(zhuǎn)速無漂移，結(jié)果穩(wěn)定
6. 真空下離心充填
   攪拌脫泡后，利用離心力在真空腔內(nèi)直接充填到注射器，防止氣泡再次混入，材料損耗少、時(shí)間短。（需專用夾具）

• 真空腔方式：全程真空攪拌，真空度穩(wěn)定可控
• G4 攪拌機(jī)構(gòu)：自轉(zhuǎn)/公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速任意設(shè)定，適配不同材料
• 真空度設(shè)定/保持：通過真空計(jì)設(shè)定目標(biāo)值，自動(dòng)控制
• 多配方登錄：可存儲(chǔ)多組轉(zhuǎn)速、攪拌時(shí)間、真空度等參數(shù)，操作員只需選擇菜單號(hào)，防止誤操作
• 多步運(yùn)行：可連續(xù)執(zhí)行不同配方
• 透明亞克力蓋：運(yùn)行中可配合頻閃燈觀察材料流動(dòng)與脫泡狀態(tài)（UV膠可定制防紫外措施）